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名古屋大学 工学研究科量子工学専攻 | 論文
- Kr^+イオン照射によるMnBi薄膜の構造変化と磁気特性制御(光記録,磁気記録)
- イオン照射によるナノ磁性構造の作製 ((社)日本磁気学会第172回研究会 ナノ磁性体・磁性素子の作製--トップダウンとボトムアップ)
- Kr^+イオン照射によるMnBi薄膜の構造変化と磁気特性制御
- Mass Spectrometryによる製剤分析(第7報) : 解熱鎮痛剤の分析その3 : フェナセチン, ピリナジン, パスの高分解能質量スペクトル
- ECR C_4F_8プラズマにおけるCFxラジカル絶対密度の空間分布の計測とその分布形成機構
- CFxラジカル絶対密度のIRLAS空間分布測定
- C-4-9 光ファイバーのラマンシフトにより波長変換したフェムト秒ソリトンパルスの第2次高調波発生
- ディジタル信号処理FMヘテロダイン干渉法による近距離検出
- フォトサーマル効果を用いた近接距離検出法
- 円形回折格子のレーザ回折光を用いた基準位置検出法
- CARSによるArFエキシマレーザー放電中のF_2密度測定
- 放電励起ArFレーザプラズマ中の電子密度計測
- 低温多結晶シリコン薄膜の成長表面の評価
- ECR水素 プラズマアニール過程の in situ PM-IR-RAS 観察
- コヒーレント光注入によるDFB-LDのデバイスパラメータ測定
- Er添加光ファイバ増幅器の増幅自然放出光を用いたインコヒーレント光干渉計の距離分解能の検討
- インコヒーレント光を用いた反射光計測による DFB-LDの実効利得測定
- インコヒーレント光を用いた反射光計測によるDFB-LDのデバイスパラメータ測定
- インコヒーレント光を用いた反射光計測によるDFB-LDのデバイスパラメータ測定
- インコヒーレント光を用いた反射光計測によるDFB-LDの端面反射率測定