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住友電気工業株式会社伝送デバイス研究所 | 論文
- 4ch一心双方向光トランシーバモジュールの開発
- C-3-63 小型セラミックパッケージを用いた直接変調TOSAの開発(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- フォトニックネットワーク用半導体集積光ラベル符号化デバイス
- 6-5 2.4Gbps PCM光画像伝送装置の開発
- AlGaInAsレーザのESD耐性(光部品の実装・信頼性,一般)
- AlGaInAsレーザのESD耐性(光部品の実装・信頼性,一般)
- 分散補償ファイバ高性能化に関する検討
- 波長多重ファイバグレーティング外部共振器レーザアレイ
- ファイバグレーティング外部共振器半導体レーザの変調歪特性の評価
- 分布帰還型半導体レーザの回折格子へのUVナノインプリント技術の応用 (特集 インプリントリソグラフィのフォトニクスへの応用)
- C-4-16 ナノインプリント技術を用いたDFBレーザの作製(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
- 半透過型PDを用いたTCM用光送受信モジュールの開発(II)送受信モジュールの特性
- 樹脂モールドを用いた高信頼性光アクセスデバイス
- 樹脂モールドを用いた高信頼性光アクセスデバイス
- 樹脂モールドを用いた高信頼性光アクセスデバイス
- メトロネットワークに適した負分散フラットファイバの提案
- メトロネットワークに適した負分散フラットファイバの提案(次世代伝送用光ファイバ,機能性光ファイバ,フォトニック結晶ファイバ,ファイバ非線形現象,一般)
- メトロネットワークに適した負分散フラットファイバの提案(次世代伝送用光ファイバ,機能性光ファイバ,フォトニック結晶ファイバ,ファイバ非線形現象,一般)
- B-10-119 メトロネットワーク向け負分散フラットファイバ(B-10. 光通信システムB(光通信))
- 19aYC-6 GaAsN/GaAs単一量子井戸構造の光学特性と正孔サブバンド構造(量子井戸・超格子,領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))
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