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住友電気工業株式会社伝送デバイス研究所 | 論文
- ナノインプリント技術を応用した光通信用レーザの作製
- 2層フィルタPDを用いた低クロストーク高感度1.3 / 1.55μm送受信モジュール
- C-3-43 直線導波路とWDMフィルタを用いた1.3/1.55μm光送受信モジュールの開発
- C-3-33 トランスファモールド型表面実装LDモジュールの信頼性
- C-3-30 156Mbpsバースト信号対応表面実装型PIN-AMPモジュールの開発
- C-3-132 1.25Gbps, 80km 伝送可能な同軸型 FGL モジュール
- イーサネットに適合した一心双方向 1.3/1.55μm光送受信モジュールの開発
- BCB埋め込み型リッジ導波路構造を有する1.3μm波長帯AlGaInAs/InP DFBレーザ(量子効果デバイス(光信号処理,LD,光増幅,変調等)と集積化技術,一般,材料デバイスサマーミーティング)
- 情報通信 BCB平坦化プロセスによる1.3μum波長帯AlGalnAs/lnPリッジ導波路型レーザ
- AlGaInAsレーザのESD耐性(光部品の実装・信頼性,一般)
- GaInAsP埋込型レーザのエージングとESD耐性との関係
- GaInAsPレーザの端面活性層での光吸収による劣化機構とその抑制策
- GaInAsP/InPレーザの劣化解析技術(光部品の実装・信頼性,一般)
- GaInAsP LDのESD劣化機構解析と劣化抑制技術開発
- InGaAsP/InPレーザの劣化解析(光部品の実装・信頼性, 一般)
- GaInAsP/InPレーザのESD劣化解析
- 1.55μm帯CWDM用無温調ファイバブラッググレーティング外部共振型半導体レーザ
- 無温調同軸型ファイバブラッググレーティング外部共振器半導体レーザ
- 直接変調ファイバグレーティングレーザ(FGL)を用いたチャンネル間隔12.5GHz及び25GHzでのDWDM伝送
- 直接変調ファイバグレーティングレーザ(FGL)を用いた周波数間隔25GHzでのDWDM伝送