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住友電気工業(株) | 論文
- 3インチ径InP基板上へのGbit/s帯pin/HEMT受信OEICの作製
- ファイバグレーティングの耐放射線特性
- ファイバグレーティングの加熱経時変化
- 水素添加ガラスの光誘起屈折率変化
- 位相格子を用いたファイバグレーティングの作製
- ファイバグレーティングの信頼性評価
- 水素処理ファイバを用いた高反射率ファイバグレーティングの作製
- ファイバグレーティングの作成と応用について
- 知的な技術文章の書き方(2) : 作図力学と高度なプレゼンテーション
- 知的な技術文章の書き方(1) : 技術文章の徹底訓練法
- 静電吸着制御型マイクロアクチュエータによる光通信用可変利得等化器の高性能化(光部品の実装・信頼性,一般)
- 静電吸着制御型マイクロアクチュエータによる光通信用可変利得等化器の高性能化(光部品の実装・信頼性,一般)
- MEMSアクチュエータアレイを用いた機械式光通信用可変利得等化器(光部品の実装・信頼性,一般)
- MEMSアクチュエータアレイを用いた機械式光通信用可変利得等化器(光部品の実装・信頼性,一般)
- C-3-11 低分散バンドセパレーションFBGの開発
- ファイバグレーティング型可変分散補償器
- 多波長反射型ファイバブラッググレーティング
- C-3-116 ファイバカプラブラッググレーティング型ADMの検討
- ファイバグレーティングのべき型熱劣化特性および長期劣化予測
- 単心ファイバ用メカニカルスプライスの開発