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京都大学工学部イオン工学実験施設 | 論文
- 50 keVでリンイオンを注入した放射線治療用シリカガラスの性質
- 200kVArガスクラスターイオンビームによる浅い注入層の形成
- ICBによるエピタキシャルAl/Al_2O_3積層構造の形成と応用
- ICBによるSi基板上のエピタキシャルAl/Al_2O_3積層構造の共鳴トンネルデバイスへの検討
- エタノールクラスターイオンビームを用いたシリコン基板の微細加工(シリコン関連材料の作製と評価)
- エタノールクラスターイオンビームによるシリコン表面の低損傷・高効率スパッタリング(シリコン関連材料の作製と評価)
- 低エネルギーホウ素イオン注入におけるホウ素の蓄積・脱離過程のシミュレーション
- ガスクラスターイオンビームを用いた半導体表面処理技術の開発