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アネルバ | 論文
- 高周波放電電極上の自己バイアス電位分布の研究
- CVD-Cu Cluster Tool〔和文〕 (全冊特集 300mm/130nm対応の半導体製造装置)
- 1210 超電導バルク磁石を用いたスパッタガンの開発
- マルチウィンドウ型アンテナを用いた極超短波プラズマ源
- NiFe/Cu人工格子膜のGMR効果に及ぼす成膜前H_2O分圧の影響
- UHV-低圧スパッタ法によるNiFe/Cu人工格子のGMR
- 27pA01P 平面ECRプラズマ生成用高効率マイクロ波伝送路(プラズマ基礎・応用)
- 銅イオンプロセス用ドロップレットフリープラズマ源の開発
- 29a-N-1 プローブ特性に対する高周波電位変動の影響
- 60MHzの高周波を用いたマグネトロンスパッタにおけるプラズマ及び成膜特性
- Biased Directional Sputtering装置におけるプラズマ特性と金属原子のイオン化率の計測
- SiO2 Etching using high density plasma sources
- UHFプラズマ源の特性評価およびドライエッチングへの応用
- 帯状1ループアンテナプラズマ源のプラズマ特性
- 帯状1ループアンテナによる低圧力高密度プラズマの生成
- 地球温暖化PFCガス対策の進捗と展望 : CVDクリーニングRITE Pj成果展開と産学官連携による実用化の展望
- 空中静止小型飛しょう体ロボットの基礎検討
- 飛翔体監視ロボットの基礎検討
- 回転翼空中浮揚機構に関する基礎検討
- 各論 Cu配線形成用CVD装置開発の課題と将来展望 (特集2 半導体製造技術・装置の技術展望)