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(財)材料科学技術振興財団 | 論文
- 表面分析講座-14-2次イオン質量分析法(SIMS)
- 投影型二次イオン質量分析装置を用いた微小領域測定における制限視野法の効果(表面・界面・薄膜と分析化学)
- 二次イオン質量分析法による窒化アルミニウム焼結体の酸素二次イオン像の観察(表面・界面・薄膜と分析化学)
- 29p-BPS-55 MEIS、AES、RHEEDによるCu/Si(111)の成長過程II
- 24a-PS-38 MEIS、AES、RHEEDによるCu/Si(111)の成長過程
- 2次イオン質量分析法によるセラミックス材料の局所観察 (キャラクタリゼ-ション技術の新しい展開--ナノ-サブナノ領域材料評価技術)
- 4a-PS-36 中速イオン散乱分光法によるCu/Si(111)の成長過程
- パルスイオンビ-ムを用いた計測・評価法--飛行時間型SIMSへの応用 (材料性能評価のためのパルス計測技術(技術ノ-ト))
- 高エネルギーイオン注入技術を応用した材料の表面改質
- K-0708 二重イオン注入した金属材料の硬化機構(S07-2 薄膜の機能性)(S07 表面改質とその機能特性評価)
- 327 ナノインデンターによる Si+C_2 重イオン注入材の硬度分布測定
- 二次イオン質量分析技術 -浅い接合測定技術-