壷井 修 | 富士通・半導体プロセス開発部

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概要

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• 同名の論文著者
• 富士通・半導体プロセス開発部の論文著者

関連著者

• 壷井 修

  富士通・半導体プロセス開発部

• 助川 和雄

  富士通株式会社

• 助川 和雄

  富士通(株)電子デバイス事業推進本部プロセス開発部

• 河村 誠一郎

  富士通(株)プロセス開発部

• 河村 誠一郎

  富士通(株)電子デバイス事業推進本部プロセス開発部

• 壷井 修

  富士通(株)電子デバイス事業推進本部プロセス開発部

• 藁科 卓

  富士通(株)電子デバイス事業推進本部プロセス開発部

• 川合 真一

  富士通(株)電子デバイス事業推進本部プロセス開発部

• 壷井 修

  富士通(株)dram事業部

• 藁科 卓

  富士通研

• 若山 繁俊

  富士通研究所システムLSI開発研究所

• 若山 繁俊

  (株)富士通研究所

• 川嶋 将一郎

  富士通研究所

• 助川 和雄

  富士通・半導体プロセス開発部

• 島内 由紀

  富士通研究所

• 山崎 辰也

  富士通・半導体プロセス開発部

• 島内 由紀

  (株)富士通研究所システムLSI開発研究所LSIテクノロジ研究部

• 川嶋 将一郎

  富士通マイクロエレクトロニクス・システムマイクロ事業部

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著作論文

• マルチVth 0.35μm CMOSテクノロジ 1V 50MHz 15mW 32Kb SRAM
• 300MHz/1V動作0.8μm SIMOX/CMOS PLLシンセサイザ
• 300MHz/1V動作0.8μm SIMOX/CMOS PLLシンセサイザ

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