三原 理 | 大阪大学大学院 工学研究科

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概要

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• 同名の論文著者
• 大阪大学大学院 工学研究科の論文著者

関連著者

• 谷口 研二

  大阪大学大学院工学研究科

• 鎌倉 良成

  大阪大学大学院工学研究科電気電子情報工学専攻

• 三原 理

  大阪大学大学院工学研究科

• 鎌倉 良成

  大阪大学大学院工学研究科

• 谷口 研二

  大阪大

• Taniguchi K

  Osaka Univ. Osaka Jpn

• Taniguchi K

  Department Of Electronics And Information Systems Osaka University

• 三原 理

  大阪大学大学院 工学研究科

著作論文

• 15nm以上の膜厚を有するシリコン酸化膜の絶縁破壊統計性(ゲート絶縁膜, 容量膜, 機能膜及びメモリ技術)

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