王 冬 | 九州大学大学院総合理工学府
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概要
関連著者
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中島 寛
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王 冬
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先端科学技術共同研究センター
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山本 圭介
九州大学産学連携センター
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佐田 隆宏
九州大学大学院総合理工学府・研究院
著作論文
- TiN/Geコンタクトに於けるフェルミレベルピンニング変調とMOSデバイスへの応用(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- ゲートスタックへのHf導入によるメタル・ソース/ドレインGe p-MOSFETの高移動度化(高誘電率膜,界面制御,メモリ技術,ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)