王 冬 | 九州大学産学連携センター
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概要
関連著者
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王 冬
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中島 寛
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先端科学技術共同研究センター
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九大 産学連携セ
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王 冬
九州大学大学院総合理工学府
著作論文
- 界面層にHfGeNおよびGeO_2を有するhigh-k膜/Ge構造の形成と電気的評価 : Ge基板への絶縁膜形成(レギュラーセッション,ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 極薄GeO2界面層を有するZr系high-k/Geゲートスタック構造の形成
- TiN/Geコンタクトに於けるフェルミレベルピンニング変調とMOSデバイスへの応用(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)