中田 穣治 | Department of Information Science, Faculty of Science, Kanagawa University:To whom correspondence should be addressed
スポンサーリンク
概要
- 中田 穣治の詳細を見る
- 同名の論文著者
- Department of Information Science, Faculty of Science, Kanagawa University:To whom correspondence should be addressedの論文著者
関連著者
-
服部 俊幸
東京工業大学原子炉工学研究所
-
服部 俊幸
Tokyo Inst. Technol. Tokyo Jpn
-
斎藤 保直
Department of Information Science, Faculty of Science, Kanagawa University
-
斎藤 保直
神奈川大理
-
中田 穣治
神奈川大理
-
中田 穣治
Department of Information Science, Faculty of Science, Kanagawa University:To whom correspondence should be addressed
-
川崎 克則
Tokyo Inst. Technol. Tokyo Jpn
-
中田 穣治
神奈川大
-
中田 穣治
Department of Information Science, Faculty of Science, Kanagawa University
-
川崎 克則
Graduate School of Science and Engineering
-
服部 俊幸
Research Laboratory of Nuclear Reactor.
-
Ohno Shinich
Department of Information Science, Faculty of Science, Kanagawa University
-
Saitou Yasunao
Department of Information Science, Faculty of Science, Kanagawa University
-
Nakata Jyoji
Department of Information Science, Faculty of Science, Kanagawa University
-
Kawasaki Katsunori
Graduate School of Science and Engineering TIT
-
Hattori Toshiyuki
RLNR TIT
-
Ohno Shinich
Department Of Information Science Faculty Of Science Kanagawa University
-
星野 靖
神奈川大理
-
Nakata Jyoji
Graduate School of Science and Engineering TIT
-
中田 穣治
RLNR TIT
著作論文
- イオン注入したダイヤモンド半導体のMeV 級イオンビーム照射による電気的活性化の研究- 高品質ダイヤモンド薄膜の形成と評価の研究(3)-
- 中電流型イオン注入装置の導入
- 多目的分析装置の立ち上げ
- イオン注入したダイヤモンド半導体のMeV級イオンビーム照射による電気的活性化の研究 : 高品質ダイヤモンド薄膜の形成と評価の研究(2)
- Analysis of Electrode Materials for Diamond Semiconductors using RBS and PIXE Methods(By a grant of Research Institute for Integrated Science, Kanagawa University)