中林 史智 | 関学大理工
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
高橋 功
関学大理工
-
北原 周
関学大理工
-
中林 史智
関学大理工
-
上石 直哉
関学大理工
-
高橋 功
関学理
-
高橋 功
京大理
-
寺内 暉
関学大理工
-
川端 和重
北大院理
-
井上 公治
関学大理工
-
松下 聖彦
関学大理工
-
吉川 寛之
関学大理工
-
寺内 暉
関西学院大
-
井上 公冶
関学大理工
-
川端 和重
北大院・理・生物科学
-
川端 和重
北海道大学 大学院理学院生命理学専攻細胞ダイナミクス科学分野
-
森 克仁
早大理工
-
野田 武宏
関西学院大理工
-
川端 和重
北大院理・物理
-
野田 武宏
関学大理工
-
杉本 吉規
関学大理工
-
森 克仁
関学大理工
-
井上 公治
関学大理
-
吉川 寛之
関学大理
-
金子 忠昭
関西学院大理工
-
金子 忠昭
関学大理工
-
金子 忠昭
関西学院大学理工学部物理学科
-
坂田 修身
JASRI
-
上石 直也
関学大理工
-
吉川 通典
関学大理工
-
坂田 修身
Jst-crest:高輝度光科学研
-
坂田 修身
高輝度光科学研究センター
-
坂田 修身
財団法人 高輝度光科学研究センター
-
坂田 修身
高輝度光科学研究センター放射光研究所利用促進部門
著作論文
- 22aYD-2 透過型 X 線反射率による Ga/GaAs 融液成長のその場観察
- 22pZB-9 透過型 X 線反射率法を用いたガラス-磁性流体界面の構造解析
- 21pRL-2 磁性コロイド薄膜中に現れる層状構造の膜厚依存性(エマルジョン・膜,領域12,ソフトマター物理,化学物理,生物物理)
- 21pXJ-12 X線反射率(XR)法によるゲル薄膜の観察(高分子溶液・ゲル,領域12(ソフトマター物理,化学物理,生物物理))
- 25aZD-4 透過型X線反射率(TXR)法による寒天ゲル/Si界面のその場観察(ゲル・濡れ,領域12(ソフトマター物理,化学物理,生物物理))
- 27aWF-10 Si基板上にある高分子超薄膜の形態観察(液晶・高分子固体)(領域12)