上石 直哉 | 関学大理工
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概要
関連著者
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高橋 功
関学大理工
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北原 周
関学大理工
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上石 直哉
関学大理工
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中林 史智
関学大理工
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井上 公治
関学大理工
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松下 聖彦
関学大理工
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吉川 寛之
関学大理工
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井上 公冶
関学大理工
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井上 公治
関学大理
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吉川 寛之
関学大理
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寺内 暉
関学大理工
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川端 和重
北大院理
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坂田 修身
JASRI
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寺内 暉
関西学院大
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川端 和重
北大院・理・生物科学
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川端 和重
北海道大学 大学院理学院生命理学専攻細胞ダイナミクス科学分野
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坂田 修身
Jst-crest:高輝度光科学研
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坂田 修身
高輝度光科学研究センター
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坂田 修身
財団法人 高輝度光科学研究センター
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森 克仁
早大理工
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野田 武宏
関西学院大理工
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高橋 功
関学理
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坂田 修身
高輝度光科学研究センター放射光研究所利用促進部門
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川端 和重
北大院理・物理
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野田 武宏
関学大理工
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杉本 吉規
関学大理工
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森 克仁
関学大理工
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高橋 功
京大理
著作論文
- 22pZB-9 透過型 X 線反射率法を用いたガラス-磁性流体界面の構造解析
- 30pYC-14 X 線反射率法を用いたポリスチレン表面の観察 III
- 25aZD-4 透過型X線反射率(TXR)法による寒天ゲル/Si界面のその場観察(ゲル・濡れ,領域12(ソフトマター物理,化学物理,生物物理))
- 27aWF-12 X線反射率法によるPolystyreneの表面・界面における熱的挙動の観察II(液晶・高分子固体)(領域12)
- 27aWF-10 Si基板上にある高分子超薄膜の形態観察(液晶・高分子固体)(領域12)
- 20pZB-13 X 線反射率法による Polystyrene の表面・界面における熱的挙動の観察