野田 武宏 | 関学大理工
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概要
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中西 太樹
関学大理工
著作論文
- 22aYE-4 Si/Ga界面モフォロジーの温度依存性(表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 21pXJ-12 X線反射率(XR)法によるゲル薄膜の観察(高分子溶液・ゲル,領域12(ソフトマター物理,化学物理,生物物理))
- 25aZD-4 透過型X線反射率(TXR)法による寒天ゲル/Si界面のその場観察(ゲル・濡れ,領域12(ソフトマター物理,化学物理,生物物理))