Kume Ippei | System Devices Research Laboratories, NEC, 1120 Shimokuzawa, Sagamihara, Kanagawa 229-1198, Japan

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System Devices Research Laboratories, NEC, 1120 Shimokuzawa, Sagamihara, Kanagawa 229-1198, Japan | 論文

• Surface Control of Bottom Electrode in Ultra-Thin SiN Metal–Insulator–Metal Decoupling Capacitors for High Speed Processors
• 0.1μm ULSI世代の超微細アルミニウム多層配線を実現するAl-CMP技術
• アルミリフロースパッタ埋め込みとCMPによる溝配線形成
• 3. 45nm/32nm世代ULSI対応の最先端配線技術(次世代コンピュータを支える超高速・超高密度インタコネクション技術)
• ランダムテレグラフノイズの包括的理解に向けた新解析手法の提案とその応用(IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術))

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