菅野 卓雄 | 東京大学工学部
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概要
関連著者
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菅野 卓雄
東京大学工学部
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菅野 卓雄
東京大学工学部教授
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菅野 卓雄
東洋大学工学部電気・電子工学科
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仁木 栄次
東京大学工学部工業化学科
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菅野 卓雄
東京大学工学部電子工学科
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仁木 栄次
東京大学工学部工業化学科:(現)職業訓練大学校
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秋山 竜雄
東京大学工学部工業化学科
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越賀 夫差子
東京大学工学部
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仁木 栄次
東京大学工学部
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小宮 幸治
東京大学工学部工業化学科
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岡部 洋一
東京大学工学系研究科
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岡部 洋一
東京大学工学部電子工学科
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岩沢 六夫
東京大学工学部
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岡部 洋一
東京大学工学部電気工学科
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山崎 王義
東京大学工学部電子工学科
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菅野 卓雄
東京大学工学都電子学科
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越賀 夫差子
東京大学工学都電子学科
著作論文
- 半導体プロセスのモデリング (VLSIのCAD)
- ジョセフソン効果とその応用素子 : 特にディジタル回路用素子を中心として
- 金薄膜中のホット・エレクトロンの自由行程 : 薄膜・応用電子物性シンポジウム
- これからの大学教育 : 理工系を中心として(これからの大学教育)
- 半導体の応用(その1) : 超LSIとその波及効果
- セッション印象記 : Silicon and Related Materias : 第4回気相成長およびエピタキシー国際会議ならびにスペシャリスト・スクール
- Si-SiO_2の構造 : 半導体
- ホット・電子の格子振動による散乱(I) : 表面物理, 薄膜
- 化合物半導体表面不活性化技術
- シリコン-オン-サファイアを用いたイオン選択性電界効果トランジスターの製作
- 酸素プラズマ中でのGaAsの陽極酸化における酸化膜成長機構
- 酸化タンタルを用いたpH用イオン選択性トランジスター
- ショットキーエミッタを用いたホット電子の真空中への放出
- タイトル無し