鳥居 卓爾 | (株)日立製作所

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  (株)日立製作所機械研究所

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著作論文

• 半導体プロセスにおける流れや熱の問題
• 半導体拡散プロセスにおける挿入時の積層ウエハの温度分布
• 酸化膜,窒化膜付シリコンウエハの950℃における放射熱物性
• 不純物導入,拡散プロセスにおける熱的問題 : 半導体デバイスの製造技術
• 9・1・8 熱交換器(9・1 伝熱および熱力学,9.熱工学,機械工学年鑑)
• 1.「エントロピー生成によるガスタービン翼の冷却方式の評価
• 下部を加熱された狭い垂直環状空間内自然対流 : 第3報, 各種要因が対流発生に及ぼす影響
• 「エントロピー生成」によるガスタービン翼の冷却方式の評価

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