松室 昭仁 | 名大工

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概要

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• 松室 昭仁

  名大・工

• 太田 英伸

  名大院

• 太田 英伸

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• 高橋 裕

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• 水谷 宇一郎

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• 妹尾 允史

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• 三浦 浩治

  愛教大物理

• 三浦 浩治

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  大豊工業

• 沖田 俊一

  名古屋大学大学院

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  愛知工業大学工学部機械学科

• 松室 昭仁

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• 沖田 俊一

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• 長屋 重夫

  中部電力

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• 妹尾 允史

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• 松岡 寿真

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• 鈴木 晴視

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• 松原 安孝

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• 林 敏行

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• 林 敏行

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• 村松 睦生

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• 藤崎 健

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• 鈴木 崇雅

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• 久保山 剛

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• 真田 祐紀

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• 光田 将也

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• 森野 大輔

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• 真田 祐紀

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  大同工大

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  名大院

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  名大院

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  名古屋大学学

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著作論文

• 6a-PS-51 高圧力処理によるYBaCuOとAgの複合材料の合成及び物性
• 506 引張応力下における炭素系薄膜のその場 AFM ナノスケール観察
• 433 AFMによる応力負荷下での薄膜の動的表面観察(加工の物理)
• 233 3次元共振法による弾性係数計測システムの開発(OS 先進材料の力学的特性と計測技術)
• 27a-H-11 陽電子消滅法による超高圧力処理材料の電子状態の評価
• 510 フラーレンを介在させたグラファイトの面間摩擦
• HgBa_2(Ca_Y_x)_2Cu_3O_yの高圧合成と物性
• 28p-PSA-23 無限層構造を持つ電子系超伝導体(Sr_Ln_x)CuO_(Ln=La.Pr)の物性
• 4a-YD-9 無限層構造を持つ電子系高温超電導体Sr_RE_xCuO_(RE=La, Nd, Pr, Sm)の合成と評価
• ダイナミックイオンミキシング法によるC-N系薄膜形成とトライボロジ特性の評価
• 508 基板励振により残留応力制御した薄膜の機械的特性
• 206 ナノトライボロジーのメカニズムの解明 : 微小接触面積での摩擦力測定装置の開発と評価(O. S.高機能表面創成)
• 113 ナノトライボロジーのメカニズムの解明 : 微小接触面積の測定装置の作製と評価(計測・設計)
• 5p-B2-10 多モード共振法による極低温域での弾性定数の測定
• 508 ダイヤモンド基板上に形成した C-N の機械的性質
• 1607 ダイヤモンド基板上への窒化炭素膜の形成と機械的性質の評価
• 612 超高圧力溶体化処理による Mg-Al 合金の機械的性質変化
• 202 C-N薄膜形成によるAi, Ti, Fe材料のトライボロジー特性の変化(O. S.高機能表面創成)
• 405 C-N系薄膜の微細構造に与えるNイオン照射効果(薄膜創成・物性)
• C-N系薄膜の機械的特性と微細構造の基板材料による変化
• 1606 イオンビーム支援蒸着法による C-N 系薄膜形成時の N イオンアシスト効果
• 1605 イオンビーム支援蒸着法を用いて形成した C-N 系薄膜のトライボロジー特性 : 基板材料の効果
• 525 基板励振を用いた薄膜の残留応力制御
• 509 イオンビーム支援蒸着法による C-N 膜の形成とトライボロジー材料への応用
• 403 C-N-Si系硬質薄膜の形成及び機械的特性の評価(薄膜創成・物性)
• 401 B-O系薄膜の形成及び機械的特性の評価(薄膜創成・物性)
• 504 カーボンナノチューブ探針を用いた高アスペクト比ナノスケール加工

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