松室 昭仁 | 名大・工
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概要
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松室 昭仁
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名古屋大学学
著作論文
- 6a-PS-51 高圧力処理によるYBaCuOとAgの複合材料の合成及び物性
- 506 引張応力下における炭素系薄膜のその場 AFM ナノスケール観察
- 433 AFMによる応力負荷下での薄膜の動的表面観察(加工の物理)
- 233 3次元共振法による弾性係数計測システムの開発(OS 先進材料の力学的特性と計測技術)
- 510 フラーレンを介在させたグラファイトの面間摩擦
- Si中の圧痕直下組織の透過電子顕微鏡観察
- HgBa_2(Ca_Y_x)_2Cu_3O_yの高圧合成と物性
- 28p-PSA-23 無限層構造を持つ電子系超伝導体(Sr_Ln_x)CuO_(Ln=La.Pr)の物性
- 4a-YD-9 無限層構造を持つ電子系高温超電導体Sr_RE_xCuO_(RE=La, Nd, Pr, Sm)の合成と評価
- ダイナミックイオンミキシング法によるC-N系薄膜形成とトライボロジ特性の評価
- 206 ナノトライボロジーのメカニズムの解明 : 微小接触面積での摩擦力測定装置の開発と評価(O. S.高機能表面創成)
- 113 ナノトライボロジーのメカニズムの解明 : 微小接触面積の測定装置の作製と評価(計測・設計)
- 508 ダイヤモンド基板上に形成した C-N の機械的性質
- 1607 ダイヤモンド基板上への窒化炭素膜の形成と機械的性質の評価
- 612 超高圧力溶体化処理による Mg-Al 合金の機械的性質変化
- 202 C-N薄膜形成によるAi, Ti, Fe材料のトライボロジー特性の変化(O. S.高機能表面創成)
- 405 C-N系薄膜の微細構造に与えるNイオン照射効果(薄膜創成・物性)
- C-N系薄膜の機械的特性と微細構造の基板材料による変化
- 1606 イオンビーム支援蒸着法による C-N 系薄膜形成時の N イオンアシスト効果
- 1605 イオンビーム支援蒸着法を用いて形成した C-N 系薄膜のトライボロジー特性 : 基板材料の効果
- 27a-R-1 超高圧力溶体化処理によるA1-SiおよびA1-Ge過飽和固溶体の超伝導特性
- 525 基板励振を用いた薄膜の残留応力制御
- 5a-B5-7 高圧力下での温度・圧力同時決定法
- 509 イオンビーム支援蒸着法による C-N 膜の形成とトライボロジー材料への応用
- 403 C-N-Si系硬質薄膜の形成及び機械的特性の評価(薄膜創成・物性)
- 401 B-O系薄膜の形成及び機械的特性の評価(薄膜創成・物性)
- イオンビーム支援蒸着法によるB-C-N系薄膜の創成と機械的性質の評価
- 428 イオンビーム支援蒸着法を用いて形成したC-N系薄膜のトライボロジー特性 : Arイオンアシスト効果(O.S.9. 機能薄膜創成と物性)