安江 常夫 | 名大工
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概要
関連著者
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安江 常夫
名大工
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一宮 彪彦
名大工
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一宮 彪彦
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大谷 俊介
プラズマ研
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大谷 俊介
核融合研
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一宮 彪彦
プラズマ研
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織田 一彦
名大工
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俵 博之
核融合研
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大谷 俊介
名大・プラズマ研
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田沢 雄二
プラズマ研
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俵 博之
クィーンズ大
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高木 祥示
プラズマ研
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山田 吉孝
プラズマ研
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後藤 哲二
プラズマ研
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川口 洋一
プラズマ研
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小谷 正博
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学習院女子短大
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大谷 俊介
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小谷 正博
学習院理
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高木 祥示
東邦大理
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東邦大理
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三重大工
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横浜市大理
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大谷 俊介
名大プラズマ研
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山田 吉孝
名大工
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川口 洋一
学習院女短大一般教
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大谷 俊介
明大プラ研
著作論文
- 27p-D-1 アルカリハライドからの中性原子脱離
- 3a-S-7 アルカリハライドからのイオン脱離
- 31a-T-12 多価イオン衝撃による金属表面からの二次電子放出II
- 5a-W-8 多価イオン衝撃による金属表面からの二次電子放出
- 30p-TA-2 アルカリ吸着したSi(111)表面からの電子衝撃脱離
- 6a-C4-10 多価イオンと固体表面との相互作用
- 5a-B4-2 半導体表面からの電子衝撃脱離II
- 29a-O-6 アルカリハライドからのイオン脱離 V
- 27p-D-2 アルカリハライドからのイオン脱離 III
- 1a-F4-2 半導体表面からの電子衝撃脱離(表面・界面)
- 2p-K3-3 多価イオンによる金属表面からの二次電子放出(表面・界面)
- 28a-H-4 アルカリハライドからのイオン脱離 IV(表面・界面)
- 28a-H-5 アルカリハライドからの電子衝撃脱離(表面・界面)
- 29a-R-3 シンクロトロン放射光を用いたビスマスクラスターBi_n(n≦4)の光イオン化(29aR 原子・分子)
- 29p-TJ-4 電子遷移によるアルカリハライドからの脱離過程(29pTJ 表面・界面シンポジウム:固体表面における励起脱離現象)
- 31a-TJ-7 水素吸着したシリコン表面からの電子衝撃脱離(31aTJ 表面・界面)