岩崎 拓郎 | 弘前大学大学院理工学研究科

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概要

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関連著者

• 岩崎 拓郎

  弘前大学大学院理工学研究科

• 岡本 浩

  弘前大学大学院 理工学研究科

• 岡本 浩

  弘前大学大学院理工学研究科

• 鈴木 聡一郎

  弘前大学大学院理工学研究科

• 佐藤 真哉

  弘前大学大学院理工学研究科

• 福田 幸夫

  諏訪東京理科大学システム工学部

• 福田 幸夫

  諏訪東京理科大学

• 小野 俊郎

  弘前大学大学院理工学研究科

• 王谷 洋平

  諏訪東京理科大学

• 後藤 秀樹

  日本電信電話株式会社ntt物性科学基礎研究所

• 舘野 功太

  NTTフォトニクス研究所

• 舘野 功太

  日本電信電話(株)NTT物性科学基礎研究所

• 俵 毅彦

  日本電信電話(株)NTT物性科学基礎研究所

• 後藤 秀樹

  日本電信電話(株)ntt物性科学基礎研究所

• 寒川 哲臣

  日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所

• 寒川 哲臣

  日本電信電話株式会社 Ntt物性科学基礎研究所

• 寒川 哲臣

  日本電信電話(株)ntt物性科学基礎研究所

• 小野 俊郎

  諏訪東京理科大学

• 小野 俊郎

  弘前大学

• 佐藤 真哉

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• 成田 英史

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• 岩崎 拓郎

  弘前大学

• 岡本 浩

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著作論文

• ECRプラズマ法によって作製したGe-MIS構造のDLTSとC-t測定による評価
• 低温と室温におけるコンダクタンス法の組み合わせによるGe-MIS構造の界面準位密度評価
• IN(Ga)As積層量子ドット構造におけるキャリア注入/放出特性のDLTS評価
• ECRプラズマ法によって作製したGe-MIS構造における界面近傍トラップのDLTS評価
• ECRプラズマ法によって作製したp型並びにn型GeNx/Ge構造のコンダクタンス法による界面準位密度評価

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