山田 泰之 | 東京工業大学精密工学研究所
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概要
関連著者
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日野 史郎
東京工業大学精密工学研究所
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三浦 成久
三菱電機先端技術総合研究所
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今泉 昌之
三菱電機先端技術総合研究所
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徳光 永輔
東京工業大学
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山田 泰之
東京工業大学精密工学研究所
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石黒 暁夫
東京工業大学精密工学研究所
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日野 史郎
三菱電機先端技術総合研究所
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炭谷 博昭
三菱電機先端技術総合研究所
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徳光 永輔
東京工業大学精密工学研究所
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徳光 永輔
東京工業大学精密工学研究所:東北大学電気通信研究所it-21センター
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山田 泰之
東京工業大学大学院理工学研究科機械宇宙システム専攻
著作論文
- Al_2O_3堆積膜をゲート絶縁膜に用いたSiC-MOSFETの作製と評価(ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- Al_2O_3堆積膜をゲート絶縁膜に用いた SiC-MOSFET の作製と評価