峰田 進栄 | 電子技術総合研究所

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概要

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• 電子技術総合研究所の論文著者

関連著者

• 峰田 進栄

  電子技術総合研究所

• 安永 暢男

  新日本製鉄(株)エレクトロニクス研究所

• 安永 暢男

  電子技術総合研究所

• 池田 正幸

  電子技術総合研究所

• 安永 暢男

  新日本製鐵(株)

• 安永 暢男

  新日本製鐵 (株) 中央研究本部

• 木幡 護

  東芝タンガロイ

• 樽見 昇

  電子技術総合研究所

• 小原 明

  電子技術総合研究所 光技術部

• 山田 昭政

  電子技術総合研究所

• 藤野 誠二

  電子技術総合研究所

• 袴塚 康治

  オリンパス(株)

• 小梶 好隆

  電子技術総合研究所

• 川手 康郷

  電子技術総合研究所

• 菊田 芳和

  昭和電工(株)

• 安永 暢男

  新日鉄株式会社 第一技術研究所

• 木幡 護

  東芝タンガロイ株式会社

• 小椋 茂樹

  新日本製鐵 (株) 機械・プラント事業部

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著作論文

• 大出力C0_2レーザ光によるセラミックコーティング法の開発
• cwCO_2レーザ光による熱・光学特性の測定 : 鉄に対するCO_2レーザ光の吸収率に及ぼす表面状態の影響
• CO_2レーザビームの強度分布測定機の試作とPMMAのクレータしきい値の評価
• N イオン付加レーザ PVD 法による cBN 膜の形成
• レ-ザPVDによる耐摩耗性セラミック薄膜の形成
• レ-ザPVDによる超硬質膜の作成
• レーザPVD法によるcBN膜(超硬質薄膜形成技術の新展開)
• レーザPVD法による硬質セラミック膜の形成
• Preparation of hard carbon films by laser PVD method.

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