安永 暢男 | 新日本製鐵(株)
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概要
関連著者
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安永 暢男
新日本製鐵(株)
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安永 暢男
新日本製鉄(株)エレクトロニクス研究所
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峰田 進栄
電子技術総合研究所
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安永 暢男
新日本製鐵 (株) 中央研究本部
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安永 暢男
電子技術総合研究所
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木幡 護
東芝タンガロイ
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豊田 浩一
理化学研究所
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宮崎 俊行
職業訓練大学校
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高谷 松文
千葉工業大学
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三宅 正二郎
日本電信電話公社武蔵野電気通信研究所
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三宅 正二郎
日本電信電話(株)
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三宅 正二郎
日本電信電話(株)電気通信研究所
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鈴木 重信
職業訓練大学校
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菊池 正雄
東京大学工学部精密機械工学科
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萩生田 善明
千葉工業大学
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宮崎 俊行
職業訓練大
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松永 正久
千葉工業大学
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鈴木 重信
職訓大
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須賀 唯知
東大先端研
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高橋 裕
東大先端研
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菊池 正雄
東大(院)
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安永 暢男
新日鉄
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松永 正久
千葉工大 研
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松永 正久
千葉工業大学研究所
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松永 正久
BEST-JAPAN研究会
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菊田 芳和
昭和電工(株)
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三宅 正二郎
富山県立大学
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豊田 浩一
理化学研究所半導体工学研究室
著作論文
- 表面改質技術の最近の動向(超硬質薄膜形成技術の新展開)
- 1A09 窒化けい素・炭化けい素セラミックスのメカノケミカルポリシング
- すずボンド cBN 研磨砥石の製作
- エキシマレーザによるマイクロプロセス(精密工学の最前線)
- N イオン付加レーザ PVD 法による cBN 膜の形成
- レ-ザPVDによる耐摩耗性セラミック薄膜の形成
- レ-ザPVDによる超硬質膜の作成
- メカノケミカルポリシング法の開発 : 軟らかい砥粒で硬い材料を磨く
- レーザPVD法によるcBN膜(超硬質薄膜形成技術の新展開)
- レーザ応用加工技術の動向 : LAMP '87に関連して