首藤 健一 | 東京大学・物性研究所
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概要
関連著者
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首藤 健一
東京大学・物性研究所
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服部 賢
奈良先端大
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小森 文夫
東大・物性研
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植田 正輝
東大物性研
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服部 賢
東大・物性研
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首藤 健一
東大・物性研
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飯盛 拓嗣
東大物性研
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植田 正輝
東大・物性研
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村田 好正
東大生産研
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小森 文夫
東大物性研
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服部 賢
東大物性研
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首藤 健一
東大物性研
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飯盛 拓嗣
東大・物性研
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首藤 健一
東大 物性研
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小森 文夫
東大 物性研
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服部 賢
東大 物性研
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村田 好正
東大 物性研
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岩城 隆雄
東大物性研
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岩城 隆雄
(株)デンソー 基礎研究所
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服部 賢
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飯盛 拓嗣
東京大学・物性研究所
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小森 文夫
東京大学・物性研究所
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岩城 隆雄
東大・物性研
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村田 好正
東大・物性研
著作論文
- 7a-PS-12 光照射下Si(111)面のSTMを用いた観察
- Si(111)表面における塩素水素置換のSTM観察
- 31p-F-3 水素・塩素共吸着Si(111)表面の光電子分光
- 29a-PS-64 光電子分光による塩素吸着Si(111)表面の電子刺激脱離
- 赤外光照射下におけるSi(111)表面のSTM観察
- Si(111)-7x7表面での水素と塩素の吸着, 脱離のSTM観察
- XPSを用いた塩素吸着Si(111)表面の光脱離の研究
- 31p-PSB-48 シリコン(111)表面上に吸着した水素の光刺激による解離
- 28a-S-11 水素吸着シリコン(111)表面に於ける光照射前後のSTM/STS観察
- 29a-WC-5 塩素吸着シリコン (111) 表面における光照射前後の原子構造変化
- 29p-PSB-11 塩素吸着シリコン表面の光刺激脱離