鈴木 淑男 | 秋田県産業技術総合研究セ

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概要

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関連著者

• 鈴木 淑男

  秋田県産業技術総合研究セ

• 鈴木 淑男

  秋田県産業技術センター

• 佐々木 智生

  青学大理工

• 鈴木 淑男

  秋田県産業技術総合研究センター高度技術研究所

• 及川 亨

  (株)トーキン 筑波研究所

• 佐々木 智生

  Tdk株式会社

• 亀野 誠

  大阪大基礎工

• 仕幸 英治

  大阪大基礎工

• 新庄 輝也

  大阪大基礎工

• 白石 誠司

  大阪大基礎工

• 及川 亨

  TDK株式会社

• 亀野 誠

  阪大院基礎工

• 本多 直樹

  秋田県産業技術総合研究センター高度技術研究所

• 山川 清志

  秋田県産業技術総合研究センター

• 白石 誠司

  阪大院基礎工

• 新庄 輝也

  阪大院基礎工

• 山川 清志

  秋田県産業技術総合研究センター高度技術研究所

• 山川 清志

  秋田県産業技術総合研究センタ

• 新庄 輝也

  京大 化研

• 白石 誠司

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• Shinjo Teruya

  Chemical Research Institute Kyoto University

• 黒澤 孝裕

  秋田県産業技術総合研究センター高度技術研究所

• Shibuya T

  Univ. Tokyo Tokyo Jpn

• 山川 清志

  秋田県産業技術総合研究センター:東北大学電気通信研究所

• Shigematsu Toshihiko

  Institute For Chemical Research Kyoto University:(present Address)konan University

• 山川 清志

  秋田県産業技術総合研究センター 高度技術研究所

• 野口 潔

  Tdk株式会社

• 鈴木 淑男

  秋田県産業技術総合研究センター

• 山川 清志

  秋田県産業技術センター

• 山川 清志

  秋田県産業技術セ

• 黒澤 孝裕

  秋田県産業技術センター

• SHINJO Teruya

  Institute for Chemical Research, Kyoto University

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著作論文

• スピン応用デバイスの開発(第3報)
• スピン応用デバイスの開発(第2報)
• 変動成分抽出法を用いた二層膜媒体におけるスパイクのマッピング(磁気記録)
• スピン応用デバイスの開発(第1報)
• L1_0型FePt垂直磁化膜の現状と展望(「磁性薄膜作製技術II」)
• スピン応用デバイスの開発(第4報)
• 21pGP-5 直流非局所測定法を用いたSiへのスピン注入効果とそのバイアス電流依存性(21pGP スピントロニクス(スピン流・スピン注入・スピン波),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 25aSA-11 直流非局所3端子法を用いたハイドープSi中のスピン拡散長とその温度依存性の観測(25aSA スピントロニクス(スピン流・スピンホール効果・スピン軌道相互作用),領域3(磁性,磁気共鳴))

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