及川 亨 | TDK株式会社
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概要
関連著者
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及川 亨
(株)トーキン 筑波研究所
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佐々木 智生
Tdk株式会社
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亀野 誠
大阪大基礎工
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及川 亨
TDK株式会社
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鈴木 淑男
秋田県産業技術センター
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亀野 誠
阪大院基礎工
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白石 誠司
阪大院基礎工
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新庄 輝也
阪大院基礎工
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佐々木 智生
青学大理工
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鈴木 淑男
秋田県産業技術総合研究セ
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仕幸 英治
大阪大基礎工
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新庄 輝也
大阪大基礎工
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白石 誠司
大阪大基礎工
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新庄 輝也
京大 化研
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白石 誠司
大阪大学大学院基礎工学研究科
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Shinjo Teruya
Chemical Research Institute Kyoto University
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Shibuya T
Univ. Tokyo Tokyo Jpn
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Shigematsu Toshihiko
Institute For Chemical Research Kyoto University:(present Address)konan University
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野口 潔
Tdk株式会社
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鈴木 淑男
秋田県産業技術総合研究センター
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SHINJO Teruya
Institute for Chemical Research, Kyoto University
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安藤 裕一郎
阪大院基礎工
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小池 勇人
TDK株式会社
著作論文
- 21pGP-5 直流非局所測定法を用いたSiへのスピン注入効果とそのバイアス電流依存性(21pGP スピントロニクス(スピン流・スピン注入・スピン波),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 25aSA-11 直流非局所3端子法を用いたハイドープSi中のスピン拡散長とその温度依存性の観測(25aSA スピントロニクス(スピン流・スピンホール効果・スピン軌道相互作用),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 26aKF-11 強磁性-非磁性電極を用いた2端子法における高ドープn型Si中のスピンドリフト速度の定量的評価(スピントロニクス(スピン流),領域3(磁性,磁気共鳴))