亀野 誠 | 大阪大基礎工

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概要

• 同名の論文著者
• 大阪大基礎工の論文著者

関連著者

• 及川 亨

  (株)トーキン 筑波研究所

• 佐々木 智生

  Tdk株式会社

• 亀野 誠

  大阪大基礎工

• 鈴木 淑男

  秋田県産業技術センター

• 亀野 誠

  阪大院基礎工

• 白石 誠司

  阪大院基礎工

• 新庄 輝也

  阪大院基礎工

• 佐々木 智生

  青学大理工

• 及川 亨

  TDK株式会社

• 鈴木 淑男

  秋田県産業技術総合研究セ

• 仕幸 英治

  大阪大基礎工

• 新庄 輝也

  大阪大基礎工

• 白石 誠司

  大阪大基礎工

• 安藤 裕一郎

  阪大院基礎工

• 新庄 輝也

  京大 化研

• 白石 誠司

  大阪大学大学院基礎工学研究科

• Shinjo Teruya

  Chemical Research Institute Kyoto University

• Shibuya T

  Univ. Tokyo Tokyo Jpn

• Shigematsu Toshihiko

  Institute For Chemical Research Kyoto University:(present Address)konan University

• 野口 潔

  Tdk株式会社

• 鈴木 淑男

  秋田県産業技術総合研究センター

• SHINJO Teruya

  Institute for Chemical Research, Kyoto University

• 仕幸 英治

  阪大院基礎工

• 及川 享

  TDK株式会社

• 小池 勇人

  TDK株式会社

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著作論文

• 21pGP-5 直流非局所測定法を用いたSiへのスピン注入効果とそのバイアス電流依存性(21pGP スピントロニクス(スピン流・スピン注入・スピン波),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 25aSA-11 直流非局所3端子法を用いたハイドープSi中のスピン拡散長とその温度依存性の観測(25aSA スピントロニクス(スピン流・スピンホール効果・スピン軌道相互作用),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 20pCC-4 非局所4端子法、非局所3端子法、局所2端子法を用いた高ドープSiのスピン蓄積効果とスピン緩和時間の評価(20pCC スピントロニクス(スピン依存伝導),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 26aKF-11 強磁性-非磁性電極を用いた2端子法における高ドープn型Si中のスピンドリフト速度の定量的評価(スピントロニクス(スピン流),領域3(磁性,磁気共鳴))

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