堀田 育志 | 大阪大学 産業科学研究所
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概要
関連著者
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堀田 育志
大阪大学・産業科学研究所
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Joseph Mathew
大阪大学 産業科学研究所
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川合 知二
大阪大学 産業科学研究所
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田畑 仁
大阪大学 産業科学研究所
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Tabata H
Department Of Bioengineering School Of Engineering University Of Tokyo
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松井 英章
大阪大学 産業科学研究所
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堀田 育志
大阪大学 産業科学研究所
著作論文
- パルスレーザ堆積法によるII-VI族 (ZnO及びカルコゲナイド系) ワイドギャップ半導体のSi基板上への薄膜形成とその強誘電特性
- パルスレーザ堆積法によるII一VI族(ZnO及びカルコゲナイド系)ワイドギャップ半導体のSi基板上への薄膜形成とその強誘電特性