大音 光市 | 日本電気ULSIデバイス開発研究所高集積技術開発部

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概要

• 同名の論文著者
• 日本電気ULSIデバイス開発研究所高集積技術開発部の論文著者

関連著者

• 大音 光市

  Necエレクトロニクス株式会社先端プロセス技術事業部

• 恒成 欣嗣

  日本電気株式会社

• 上野 和良

  Necエレクトロニクス(株)

• 恒成 欣嗣

  日本電気ULSIデバイス開発研究所高集積技術開発部

• 上野 和良

  日本電気ULSIデバイス開発 研究所高集積技術開発部

• 大音 光市

  日本電気ULSIデバイス開発研究所高集積技術開発部

著作論文

• MOCVD-TiNバリヤ膜を用いたCu溝配線

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