中尾 正史 | Nttフォトニクス研
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概要
関連著者
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中尾 正史
NTTフォトニクス研究所
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中尾 正史
Nttフォトニクス研
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井筒 雅之
(独)情報通信研究機構
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中尾 正史
日本電信電話株式会社:nttフォトニクス研究所:(現)東北大学金属材料研究所
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井筒 雅之
通信総合研究所
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永沼 充
帝京科学大学
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松岡 隆志
NTT物性科学基礎研究所
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岡本 浩
NTTフォトニクス研究所
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播磨 弘
京都工芸繊維大学工芸学部
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栗本 英治
大阪大学大学院工学研究科
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栗本 英治
大阪大学大学院 工学研究科
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永沼 充
帝京科大
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播磨 弘
京都工芸繊維大学工芸学部電子情報工学科
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播磨 弘
京都工芸繊維大学
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播磨 弘
京都工芸繊維大学 工芸学部
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玉村 敏昭
Ntt
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井筒 雅之
情報通信研究機構
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田中 秀尚
Ntt境界領域研究所
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田中 秀尚
日本電信電話株式会社 Nttサイバースペース研究所
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田中 秀尚
Nttフォトニクス研究所
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奥 哲
NTTフォトニクス研究所
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横尾 篤
NTTフォトニクス研究所
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玉村 敏昭
NTTフォトニクス研究所
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益田 秀樹
東京都立大学工学部
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松居 健太
東京大学大学院工
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小林 郁太郎
東京大学大学院工
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酒巻 健司
通信総合研究所
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横尾 篤
NTT先端技術総合研究所
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Tanaka H
Ntt Interdisciplinary Research Laboratories
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Tanaka Hidenao
Ntt Integrated Information & Energy Systems Laboratories
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Tanaka Hidenao
The Authors Are With Ntt Cyber Space Laboratories
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Masuda Hideki
Ogawa & Co. Ltd. Material R&d Laboratory
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中尾 正史
Ntt フォトニクス研
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小林 郁太郎
東京大学大学院工学系研究科
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奥 哲
Ntt フォトニクス研
著作論文
- ナノホールアレイの光回路への応用
- ナノプリンティング技術
- ウルツ鉱型InNのバンドギャップ・エネルギ(進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状,及び一般)
- ウルツ鉱型InNのバンドギャップ・エネルギ(進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状、及び一般)
- 2次元フォトニック結晶の光素子への応用
- C-3-111 マルチコア型フォトニック結晶ファイバのエネルギー変換特性(C-3. 光エレクトロニクス(ホーリーファイバ), エレクトロニクス1)
- C-3-39 フォトニック結晶ファイバの広帯域光源への応用スーパーコンティニューム光発生の初期および成長過程