奈良 明子 | (株)東芝 先端半導体デバイス研究所

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概要

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• 同名の論文著者
• (株)東芝 先端半導体デバイス研究所の論文著者

関連著者

• 伊藤 仁

  (株)東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー

• 伊藤 仁

  (株)東芝ulsi研究所

• 奈良 明子

  (株)東芝 先端半導体デバイス研究所

著作論文

• テトラメチルシラン/酸素ラジカルの系の気相重合反応とSiO_x堆積形状
• Si-CH_3結合を含む低誘電率層間絶縁膜の形成

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