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渕上 紘志 | 大阪工業大学工学部電子情報通信工学科
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淀 徳男
大阪工業大学
福山 高章
大阪工業大学工学部電子情報通信工学科
渕上 紘志
大阪工業大学工学部電子情報通信工学科
淀 徳男
大阪工業大学工学部電子情報通信工学科
淀 徳男
大阪工大 工
著作論文
Si(111)基板へのGaNの低温化による影響(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
Si(111)基板へのGaNの低温化による影響(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
Si(111)基板へのGaNの低温化による影響(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
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