後藤 みき | 電気電子情報工学科
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概要
関連著者
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後藤 みき
電気電子情報工学科
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荒井 俊彦
電気電子情報工学科
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荒井 俊彦
神奈川工科大
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後藤 みき
神奈川工科大
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後藤 みき
神奈川工科大学
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荒井 俊彦
神奈川工科大学工学部
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三栖 貴行
神奈川工科大学ホームエレクトロニクス開発学科
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三栖 貴行
神奈川工科大学
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三栖 貴行
神奈川工科大
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大谷 清
東芝ライテック?
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愛敬 仁
神奈川工科大学大学院工学研究科
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大谷 清
神奈川工科大学
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藤岡 寛之
神奈川工科大学電気電子工学科
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三栖 貴行
博士後期課程電気電子工学専攻
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柳井 潤
博士前期課程電気電子工学専攻
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後藤 みき
電気電子工学科
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荒井 俊彦
電気電子工学科
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真篠 聡一
神奈川工科大学電気電子工学科
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杉本 真教
博士前期課程電気電子工学専攻
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三栖 貴行
博士前期課程電気電子工学専攻
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竹村 浩
神奈川工科大学大学院工学研究科
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酒井 隆行
神奈川工科大学
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高畠 信也
神奈川工科大
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山口 聡
株式会社 丸互
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高畠 信也
神奈川工科大学
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村上 雅彦
神奈川工科大学
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高畠 信也
神奈川工科大学創造工学部ホームエレクトロニクス開発学科
著作論文
- MgO電極を用いたCVDダイヤモンドの反応性イオンエッチング
- 液晶バックライト用電極としてのダイヤモンド膜の検討
- O_2/CF_4プラズマによるダイヤモンドエッチングとプラズマパラメータ
- CF_4プラズマにおけるCF_2ラジカルに及ぼす壁温度加熱の影響
- O_2/CF_4プラズマ中のCVDダイヤモンド薄膜の反応性イオンエッチンング
- ホローカソード直流CF_4プラズマ中のCF_3, CF_2ラジカル密度計測
- ホローカソードCF_4プラズマ中のCF_3CF_2ラジカル測定
- P8. 液晶バックライト用低圧Ar-Hg放電中におけるプラズマ諸量のAr圧力依存性
- 11. 液晶バックライト用水銀ランプ中のプラズマパラメータと粒子密度
- 半導体プロセス用CF4/H2プラズマ中のCFラジカルの挙動
- 液晶バックライト用低圧Ar-Hg放電中の粒子密度とプラズマパラメータ
- 熱フィラメントCVD法で堆積した : ダイヤモンド薄膜の構造と二次電子放出係数