小林 一三 | 日本酸素株式会社 電子機材事業本部

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概要

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関連著者

• 小林 一三

  日本酸素株式会社つくば研究所

• 小林 一三

  日本酸素株式会社 電子機材事業本部

• 田渕 俊也

  大陽日酸株式会社電子機材事業本部

• 橋本 秀樹

  株式会社東レリサーチセンター

• 山元 隆志

  株式会社東レリサーチセンター

• 富永 浩二

  中部大学工学部工業化学科

• 岡田 勝

  中部大 工

• 泉 由貴子

  株式会社東レリサーチセンター

• 大沢 正典

  大陽日酸株式会社

• 杉田 義博

  富士通株式会社プロセス開発部

• 高木 威

  中部大学工学部工業化学科

• 岡田 勝

  中部大学工学部工業化学科

• 小林 一三

  日本酸素株式会社産業ガス事業本部技術統括部

• 岡田 勝

  中部大学工学部 応用化学科

• 橋本 秀樹

  東レリサーチセ

• 大沢 正典

  日本酸素株式会社産業ガス事業本部技術統括部

• 田渕 俊也

  日本酸素株式会社 電子機材事業本部

• 津山 朝子

  日本酸素株式会社 電子機材事業本部

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著作論文

• MOCVD 原料としての高純度[Sr(dpm)_2]の合成
• MOCVD 法による LiNbO_3 薄膜の合成
• MOCVD 原料としての高純度[Ti(dpm)_2(i-C_3H_7O)_2)]の合成
• MOCVD法による光IC薄膜作製用原料としての高純度Nb(dpm)_2Cl_3の合成
• MOCVD法によるTa_2O_5薄膜作製用原料としての高純度[Ta(dpm)_4]Clの合成
• MOCVD 原料としての高純度 Pb(dpm)_2の特性
• Y_2O_3およびYAlO_x膜の熱処理依存性評価(極薄ゲート絶縁膜・シリコン界面の評価技術・解析技術)
• 酸化物薄膜のCVD技術 : CVD原料としての金属錯体とその供給技術

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