伊藤 糾次 | 早稲田大学理工学部電子通信学科

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概要

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関連著者

• 伊藤 糾次

  早稲田大学理工学部電子通信学科

• 伊藤 糾次

  早稲田大学

• 高石 芳宏

  早稲田大学理工学部電子通信学科

• 大泊 巌

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• 内山 明彦

  早稲田大学

• 田中 末雄

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• 井出 恭三

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• 長谷川 新一

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• 池田 正博

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著作論文

• イオンビームスパッタ法によるGaAs_Pxエピタキシャル膜の作成とその特性
• 部分電離法によるSiエピタキシャル膜へのGa, Sbのドーピング効率
• 高濃度Ar+イオン注入による “新しい” ESR中心について
• 真空装置中の残留水分によるシリコンウェハのエッチング
• 半導体素子への真空の応用
• 真空蒸着法によるシリコンのエピタキシャル成長
• トランジスタ式直流定電圧装置

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