中垣 亮 | 日立製作所生産技術研究所

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概要

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• 中垣 亮

  日立製作所生産技術研究所

• 高木 裕治

  (株)日立製作所生産技術研究所

• 中垣 亮

  (株)日立製作所生産技術研究所

• 長友 渉

  日立製作所生産技術研究所

• 宍戸 千絵

  日立製作所生産技術研究所

• 中前 幸治

  大阪大学工学部情報システム工学科

• 藤岡 弘

  大阪大学工学部情報システム工学科

• 土井 秀明

  (株)日立製作所生産技術研究所

• 川口 広志

  (株)日立製作所生産技術研究所

• 山口 敦子

  日立製作所中央研究所

• 高木 裕治

  日立製作所生産技術研究所

• 高木 裕治

  (株)日立製作所

• 宮本 敦

  日立製作所生産技術研究所

• 諸熊 秀俊

  日立ハイテクノロジーズ

• 宍戸 千絵

  日立製作所 生産技術研究所

• 高木 裕治

  株式会社　日立製作所　生産技術研究所

• 中垣 亮

  株式会社　日立製作所　生産技術研究所

• 宍戸 千絵

  株式会社　日立製作所　生産技術研究所

• 田中 麻紀

  株式会社　日立製作所　生産技術研究所

• 長友 渉

  (株)日立製作所生産技術研究所

• 川田 洋揮

  日立ハイテクノロジーズ那珂事業所

• 川口 広志

  (株)日立製作所 生産技術研究所

• 松本 学

  大阪大学工学部情報システム工学科

• 藤岡 弘

  大阪大学工学部情報システムエ学科

• 宮本 敦

  日立製作所 生産技術研究所

• 中垣 亮

  大阪大学工学部情報システム工学科

• 中垣 亮

  株式会社日立製作所生産技術研究所

• カッツァゲロス アゲロス

  Department of Electrical and Computer Engineering, Northwestern University

• カッツァゲロス アゲロス

  Department Of Electrical And Computer Engineering Northwestern University

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著作論文

• 外観検査向け並列画像処理アーキテクチャの検討
• トップダウンSEM像を用いたレジストパタン膜厚管理
• 画像計測による製造プロセスパラメータ推定法の検討
• D-11-130 半導体製造工程でのSEM計測画像によるコンタクトホールの形状評価手法(D-11.画像工学D)
• 65nmプロセスノードに対応するCD-SEM技術 (特集1 ナノメートル時代の最先端半導体デバイスの量産を支えるベストソリューション)
• ベクトル量子化を用いた画像復元アルゴリズム(画像の認識と理解)
• EBテストシステムにおけるプロービング点自動決定アルゴリズム

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