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吉田 正昭 | 阪大工
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阪大・工
著作論文
4p-K-14 Si(基板)-Ge(蒸着膜)系での相互拡散
11a-R-11 フラッシュ法(Flashing)で清浄化されたSi及びGaAs結晶表面への金属の接合
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