Gu C | ANL

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概要

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関連著者

• 横谷 尚睦

  東北大理

• 高橋 隆

  東北大理

• 吉田 博

  東北大理

• Campuzano J.c

  Univ. Illinois:anl

• Ding H

  Univ. Illinois

• Bellmann A

  Univ. Illinois

• Gu C

  ANL

• Liu R

  ANL

• 久保 佳実

  NEC基礎研

• Ding H.

  ボストン大

• 真子 隆志

  NEC基礎研

• 真子 隆志

  NEC 基礎研

• 久保 佳実

  NEC 基礎研

• 久保 佳実

  日本電気(株)基礎・環境研究所

• 門脇 和男

  金材研

• Campuzano J.

  アルゴンヌ国立研

• Campuzano J‐c

  Argonne National Lab. Illinois

• Campuzano J.c.

  アルゴンヌ国立研

• 眞子 隆志

  JRCAT

• 茂筑 高志

  金材研

• 真子 隆志

  Fundamental Research Laboratories, NEC Corporation

• 久保 佳美

  NEC基礎研究所

• Campuzano J

  アルゴンヌ国立研究所

• 真子 隆志

  Fundamental Research Laboratories Nec Corporation

• Ding H.

  National Institute For Materials Science

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著作論文

• 5p-YE-2 超高エネルギー分解能光電子分光によるTl2201のフェルミ面
• 4a-F-3 Tl_2Ba_2CuO_6の超高エネルギー分解能角度分解光電子分光
• 5p-YE-1 超高分解能光電子分光によるBi2212の超伝導ギャップの異方性
• 4a-F-2 Bi_2Sr_2CaCu_2O_8の超高エネルギー分解能角度分解光電子分光

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