中井 正人 | 大阪工業大学新材料研究センター

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概要

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関連著者

• 中島 洋二

  大阪工業大学新材料研究センター

• 中井 正人

  大阪工業大学新材料研究センター

• 佐々 誠彦

  大阪工業大学

• 井上 正崇

  大阪工業大学

• 前元 利彦

  大阪工業大学工学部電気工学科

• 中島 貴史

  大阪工業大学新材料研究センター

• 前元 利彦

  大阪工業大学 ナノ材料マイクロデバイス研究センター

• 井上 正崇

  大阪工業大学 ナノ材料マイクロデバイス研究センター

• 佐々 誠彦

  大阪工業大学ナノ材料マイクロデバイス研究センター

• 前元 利彦

  大阪工業大学

• 井上 正崇

  大阪工業大学ナノ材料マイクロデバイス研究センター

• 藤田 隆二

  大阪工業大学 新材料研究センター

• 藤田 隆二

  大阪工業大学新材料研究センター

• 藤田 隆洋

  大阪工業大学新材料研究センター

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著作論文

• AFM酸化を用いて作製したInAs表面反転層およびInAs/AlGaSb量子井戸ナノスケール開放型ドット中での電子波干渉効果(半導体エレクトロニクス)
• InAs系メゾ構造における電子波干渉効果(量子効果デバイス及び関連技術)
• InAs系メゾ構造における電子波干渉効果(量子効果デバイス及び関連技術)
• SiをドープしたInAs/AlSb量子井戸構造のサブバンド間遷移と界面評価

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