重松 俊男 | 日本電信電話(株)フォトニクス研究所
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概要
関連著者
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米沢 洋樹
日本電信電話(株)アクセスサービスシステム研究所
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重松 俊男
日本電信電話(株)フォトニクス研究所
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重松 俊男
日本電信電話(株)NTT光エレクトロニクス研究所
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鹿野 弘二
日本電信電話(株)フォトニクス研究所
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重松 俊男
NTT境界領域研究所
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安 光保
NTTエレクトロニクス
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鹿野 弘二
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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米沢 洋樹
NTT茨城研究所
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鹿野 弘二
NTT茨城研究所
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加藤 正明
NTT茨城研究所
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重松 俊男
NTT茨城研究所
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米沢 洋樹
NTT境界領域研究所
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安 光保
NTT境界領域研究所
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宮 哲雄
NTT光エレクトロニクス研究所
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宮 哲雄
Nttフォトニクス研
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加藤 正明
Ntt先端技術総合研究所企画部
著作論文
- 不足当量及び機器的/荷電粒子放射化分析による高純度鉄中の酸素, 窒素, 炭素及びホウ素の定量
- 中性子放射化分析法によるシリコンウェハー表面の銅の定量
- 2p-B-1 BaPb_Bi_xO_3の組成分析
- 10. 荷電粒子放射化分析
- 粒子励起X線分析による石英ガラス膜中のチタンの定量(表面・界面・薄膜と分析化学)
- α線共鳴散乱法 (酸化物超伝導体中の酸素含有率の測定(技術ノ-ト))
- デュアル・コンパレーター法によるガドリニウムを含むフッ化物ガラス及びガラス原料中の希土類元素の中性子放射化分析(無機材料分析のためのスペクトロメトリー)