粒子励起X線分析による石英ガラス膜中のチタンの定量(<特集>表面・界面・薄膜と分析化学)
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概要
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X線の吸収に無視できない膜厚の分析試料について, 荷電粒子励起X線分析と同時に後方散乱スペクトルを測定し, スペクトルの幅から膜厚を求め, 添加元素や不純物を正確に定量する方法を石英ガラス膜中のチタンを例に検討した.石英ガラスの実効膜厚を4MeV陽子衝撃での酸素による後方散乱で評価した.又, 陽子のエネルギーを1.8から4MeVまで変化させてチタンはくに照射し, チタンの蛍光X線断面積の衝撃粒子エネルギー依存性を測定するとともに, X線吸収係数の評価を行った.その結果, 蛍光X線断面積のエネルギー依存性は2.5から4MeVまで直線で近似できることが分かった.これらの結果を用いて, 石英ガラス膜中のチタンの定量において, 試料中の衝撃粒子のエネルギー減衰及び蛍光X線の自己吸収を補正する方法を開発した.得られた定量値は荷電粒子放射化分析によって求めた値と一致しており, 後方散乱分析を併用することにより正確なPIXE分析を可能にした.
- 社団法人日本分析化学会の論文
- 1991-11-05
著者
-
安 光保
NTTエレクトロニクス
-
米沢 洋樹
日本電信電話(株)アクセスサービスシステム研究所
-
重松 俊男
NTT境界領域研究所
-
重松 俊男
日本電信電話(株)フォトニクス研究所
-
米沢 洋樹
NTT境界領域研究所
-
安 光保
NTT境界領域研究所
-
宮 哲雄
NTT光エレクトロニクス研究所
-
宮 哲雄
Nttフォトニクス研
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