堀部 裕明 | 大阪工業大学工学部電子情報通信工学科
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概要
関連著者
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淀 徳男
大阪工業大学工学部電子情報通信工学科
著作論文
- ECR-MBE法によるSi基板上GaN薄膜作製への窒素プラズマが及ぼす影響(窒化物及び混晶半導体デバイス)
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- ECR-MBE法によるSi基板上GaN薄膜作製への窒素プラズマが及ぼす影響(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- ECR-MBE法によるSi基板上GaN薄膜作製への窒素プラズマが及ぼす影響