山本 高裕 | 大阪工業大学工学部電子情報通信工学科
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概要
関連著者
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淀 徳男
大阪工業大学工学部電子情報通信工学科
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高山 智行
大阪工業大学工学部電子情報通信工学科
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淀 徳男
大阪工大 工
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淀 徳男
大阪工業大学
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山本 高裕
大阪工業大学工学部電子情報通信工学科
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中村 俊喜
大阪工業大学工学部電子情報通信工学科
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大阪工業大学工学部電子情報通信工学科
著作論文
- ECRプラズマMBE法によるGaAs基板上立方晶InNの結晶成長(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
- ECRプラズマMBE法によるGaAs基板上立方晶InNの結晶成長(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
- ECRプラズマMBE法によるGaAs基板上立方晶InNの結晶成長(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
- ECRプラズマMBE法によるGaAs基板上立方晶InNの結晶成長(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
- ECRプラズマMBE法によるGaAs基板上立方晶InNの結晶成長(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
- ECRプラズマMBE法によるGaAs基板上立方晶InNの結晶成長(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)