岸野 正剛 | 日立製作所
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概要
関連著者
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岸野 正剛
日立製作所
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岸野 正剛
日立中研
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磯前 誠一
日立中研
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石井 満
湘南工大
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高木 一正
日立中研
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石井 満
日立中研
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飯田 進也
日立中研
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高木 一正
(株)日立製作所基礎研究所
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高良 和武
東大工
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小切間 正彦
日立中研
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石川 哲也
東大工
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安藤 正海
KEK
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河田 洋
高エ研
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入戸野 修
福島大学共生システム理工学類
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入戸野 修
東工大工
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鈴木 茂雄
三洋筑波rc
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鈴木 茂雄
東京工大理
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東 晃
北大・工
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早川 和延
日立中研
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岡野 寛
日立中研
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戸村 光一
日立中研
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野田 敦子
日立中研
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鈴木 茂雄
東工大理
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高良 和武
高工研
-
早川 和延
日立中研:x線トポグラフィ立上げ・運転グループ
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高木 豊
名大・工
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入戸野 修
東京工業大学工学部金属工学科
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井村 徹
名大工
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千川 純一
NHK基礎研
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高良 和武
KEK
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長倉 繁磨
東工大工
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橋爪 弘雄
東工大工材研
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河田 洋
富山大理
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高良 和武
東大・工
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入戸 野修
東工大工
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千川 純一
KEK・PF
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高木 ミエ
東京工芸大
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高橋 正毅
日立中研
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長倉 繁磨
東京工大・工
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杉田 吉充
日立中研
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高木 ミエ
東工大・理
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岸野 正剛
日立・中研
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倉田 一宏
日立中研
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田口 快男
日立中研
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高良 和武
東京大学
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岸野 正剛
日立製作所中央研究所:(現)超lsi技術研究組合
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岸野 正剛
日立製作所武蔵工場・プロセス技術開発部
著作論文
- X線トポグラフィーによるGGG結晶の格子欠陥の検討 : 酸化物
- X線によるGd_3Ga_5O_単結晶のfacetとstriationの観察 : 酸化物
- 13a-N-5 X線によるGd_3Ga_5O_単結晶のファセットとストラエーションの観察
- 湾曲結晶によるX線スキヤニング像の検討 : X線マイクロアナリシス シンポジウム
- 3a-A-2 GaPホモエピタキシーにおけるらせんタイプのミスフィット転位
- 30a-U-1 GaAs_P_x 結晶のクロスハッチ・パターン
- 27p-L-4 放射光X線トポグラフィ装置 I : 設計・製作・立上げと運転
- 4p-P-6 非対称回折効果による異常透過現象の促進
- 6a-KG-10 LPEガーネット膜のミスフィットと結晶系
- 5a-E-5 GaAsエピタキシャル層および界面のX線による観察
- 8p-N-10 GaAs成長層一基板における面状欠陥の観察
- GaAsエピタキシャル層の欠陥 : 結晶成長
- 軟X線と非対称回折を使った薄膜結晶およびバルク結晶の評価
- 完全性と物理
- 22a-N-6 非対称回折における異常吸収係数
- 8a-D-3 格子定数の新しい測定法
- X線干渉計による結晶の観察(I) : X線粒子線
- 3a-G-2 非対称反射によるX線回折像の変化
- 13a-H-4 鏡面反射を考慮したBragg反射の検討II
- 6a-E-6 鏡面反射を考慮したBragg反射の検討
- 軟X線と非対称回折を使った薄膜結晶およびバルク結晶の評価(Growth and Characterization of Silicon Crystals)
- VLSIと結晶