NIIMI H. | TI Assignee

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概要

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関連著者

• Lee B.

  Ibm Assignees

• Barnett J.

  Sematech

• PARK C.

  SEMATECH

• SONG S.

  SEMATECH

• BURHAM C.

  UT/Austin

• PARK H.

  Samsung Assignee

• NIIMI H.

  TI Assignee

• JU B.

  SEMATECH

• KANG C.

  SEMATECH

• LYSAGHT P.

  SEMATECH

• BERSUKER G.

  SEMATECH

• CHOI R.

  SEMATECH

• PARK H.

  GIST

• HWANG H.

  GIST

• PARK B.

  Poongsan Microtec

• KIM S.

  Poongsan Microtec

• KIRSCH P.

  IBM Assignees

• JAMMY R.

  IBM Assignees

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著作論文

• Achieving Band Edge Effective Work Function of Gate First Metal Gate by Oxygen Anneal Processes : Low Temperature Oxygen Anneal (LTOA) and High Pressure Oxygen Anneal (HPOA) Processes

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