佐藤 倬暢 | (株)フジクラ

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概要

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• (株)フジクラの論文著者

関連著者

• 佐藤 倬暢

  (株)フジクラ

• 木下 彬

  東京電機大学理工学部

• 青柳 秀和

  東京電機大学理工学部

• 本橋 章

  東京電機大学理工学部

• 山中 一司

  東北大学大学院工学研究科

• 青野 朋義

  東京電機大学工学部

• 橋本 章

  東京電機大学理工学部

• 佐藤 倬暢

  株式会社フジクラ

• 長 秀雄

  東北大学大学院 工学研究科

• 佐藤 倬暢

  藤倉電線株式会社

• 佐藤 倬暢

  フジクラ 電子デバイス研

• 佐藤 倬暢

  (株)フジクラ 電子デバイス研究所

• 上原 俊紀

  東北大学大学院工学研究科

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著作論文

• 均一電流密度で作製した陽極化成多孔質シリコンの基礎的性質
• 陽極化成シリコン中の多孔質構造体の分域化
• 陽極化成した非縮退p形シリコン中のミクロンオーダ構造
• 弾性表面波の速度分散の逆問題解析による薄膜の弾性定数および膜厚の高精度同時推定
• マイクロマシン技術を用いた積層三次元素子

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