鹿野 弘二 | 函館工業高等専門学校物質工学科
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概要
関連著者
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鹿野 弘二
函館工業高等専門学校物質工学科
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清水 誠
Nttエレクトロニクス株式会社
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森 淳
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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清水 誠
日本電信電話株式会社,NTTフォトニクス研究所
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鹿野 弘二
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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星野 耕一
NTTエレクトロニクス株式会社, 光ファイバモジュール部
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金森 照寿
NTTエレクトロニクス株式会社, 光ファイバモジュール部
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鹿野 弘二
日本電信電話(株)フォトニクス研究所
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金森 照寿
Nttエレクトロニクス株式会社 光ファイバモジュール部
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星野 耕一
Nttエレクトロニクス株式会社 光ファイバモジュール部
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清水 誠
日本電信電話公社電気通信研究所
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鹿野 弘二
NTTフォトニクス研
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清水 誠
NTTフォトニクス研
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小野 浩孝
日本電信電話株式会社nttフォトニクス研究所
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大石 泰丈
Nttエレクトロニクス株式会社 光ファイバモジュール部
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西田 好毅
日本電信電話株式会社 Nttフォトニクス研究所
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増田 浩次
日本電信電話株式会社NTT未来ねっと研究所
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森 淳
Nttフォトニクス研究所
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増田 浩次
日本電信電話株式会社 未来ねっと研究所
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及川 喜良
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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大石 泰丈
Ntt エレクトロニクス(株)
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阪本 匡
NTTフォトニクス研究所
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阪本 匡
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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大石 泰丈
Nttエレクトロニクス
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星野 耕一
NTTフォトニクス研究所
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小野 浩孝
日本電信電話株式会社,NTTフォトニクス研究所
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森 淳
Nttフォトニクス研究所複合光デバイス研究部
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藤浦 和夫
NTTフォトニクス研究所複合光デバイス研究部
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鹿野 弘二
函館工業高等専門学校
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青笹 真一
日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
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西田 好毅
日本電信電話(株)NTTフォトニクス研究所
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藤浦 和夫
NTTアドバンステクノロジ株式会社
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金森 照寿
NTTフォトニクス研究所
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藤浦 和夫
Nttフォトニクス研究所 先端光エレクトロニクス研究部
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加藤 正夫
日本電信電話株式会社nttフォトニクス研究所
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栗原 隆
Nttフォトニクス研究所
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栗原 隆
Ntt光エレクトロニクス研究所
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圓佛 晃次
Nttフォトニクス研究所複合光デバイス研究部
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加藤 正夫
NTTフォトニクス研
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小林 健二
Nttフォトニクス研究所
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西田 好毅
NTTエレクトロニクス(株)
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栗原 隆
Ntt 光エレクトロニクス研
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阪本 匡
日本電信電話株式会社 Nttフォトニクス研究所
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西田 好毅
Nttエレクトロニクス
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金森 照寿
NTTエレクトロニクス株式会社
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圓佛 晃次
NTTフォトニクス研究所
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大槻 勤
東北大学
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大槻 勤
東北大学理学部付属核理学研究施設
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大槻 勤
東北大
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星野 耕一
NTT エレクトロニクス株式会社, 光ファイバモジュール部
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金森 照寿
NTT エレクトロニクス株式会社, 光ファイバモジュール部
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大石 泰丈
NTT エレクトロニクス株式会社, 光ファイバモジュール部
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青笹 真一
NTTフォトニクス研究所
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中川 幸一
NTTエレクトロニクス(株)
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鹿野 弘二
NTT光エレクトロニクス研究所
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栗原 隆
Ntt光エレ研
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加藤 かおる
株式会社日立製作所中央研究所
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嶋田 志郎
北海道大学大学院工学研究科物質工学専攻
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大槻 勤
Laboratory of Nuclear Science, Tohoku University
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笹浦 正弘
NTTフォトニクス研究所
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廣瀬 健太郎
東北大学
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大槻 勤
東北大学大学院理学研究科原子核理学研究施設
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大槻 勤
Laboratory For Nuclear Science Tohoku University
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桝本 和義
高エネルギー加速器研究機構
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結城 秀之
東北大学理学部付属核理学研究施設
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鹿野 弘二
NTT Photonics Laboratories, Nippon Telegraph and Telephone Corporation
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桝本 和義
Radiation Science Center, High Energy Accelerator Research Organization
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森 淳
NTT Photonics Laboratories, Nippon Telegraph and Telephone Corporation
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清水 誠
NTT Photonics Laboratories, Nippon Telegraph and Telephone Corporation
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嶋田 志郎
北海道大学
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西田 好毅
NTTフォトニクス研究所
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加徳 正志
函館工業高等専門学校物質工学科第8期生
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明上 洋季
函館工業高等専門学校物質工学科第7期生
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長谷川 浩伸
函館工業高等専門学校物質工学科第6期生
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金森 照寿
NTT光エレクトロニクス研究所
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大石 泰丈
NTT光エレクトロニクス研究所
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清水 誠
NTT光エレクトロニクス研究所
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三嶋 恵太
函館工業高等専門学校専攻科環境システム工学専攻3期生
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阪本 匡
NTT光エレクトロニクス研究所
-
金森 照寿
日本電信電話株式会社 NTTフォトニクス研究所
-
増田 浩次
NTTフォトニクス研究所
-
小野 浩孝
NTTフォトニクス研究所
-
星野 耕一
NTT光エレクトロニクス研究所
-
森 淳
NTT光エレクトロニクス研究所
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小林 健二
NTT光エレクトロニクス研究所
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及川 喜良
NTT光エレクトロニクス研究所
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加藤 かおる
日本電信電話株式会社, NTTフォトニクス研究所
-
及川 喜良
NTTフォトニクス研究所
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森 敦
NTT光エレクトロニクス研究所
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加藤 かおる
NTT光エレクトロニクス研究所
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森 敦
日本電信電話株式会社 NTTフォトニクス研究所
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嶋田 志郎
北海道大学大学院工学研究科物質化学専攻
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青笹 真一
日本電信電話株式会社nttアクセスサービスシステム研究所
-
金森 照寿
日本電信電話(株)nttフォトニクス研究所
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山本 大輔
函館工業高等専門学校物質工学科9期生
-
渡邉 純野
函館工業高等専門学校物質工学科10期生
-
若山 尚央
函館工業高等専門学校物質工学科11期生
著作論文
- リチウムイオン電池負荷中のマンガンの光量子放射化分析
- 光量子放射化分析法によるKTa_Nb_xO_3単結晶中の不純物分析(II.放射化学)
- Study on Photon Activation Analysis of Carbon in Glasses for Fiber Amplifiers by Using the Flow Method for the Rapid Separation of ^C(II. Radiochemistry)
- ガラス表面処理法の検討
- C-3-32 テルライトガラスを用いた高非線形性ホーリファイバ
- テルライトガラスを用いた高非線形性ホーリファイバの設計(次世代光ファイバ,機能性光ファイバ,フォトニック結晶ファイバ,光計測,光伝搬,光信号処理,一般)
- テルライトガラスを用いた高非線形性ホーリファイバの設計(次世代光ファイバ,機能性光ファイバ,フォトニック結晶ファイバ,光計測,光伝搬,光信号処理,一般)
- C-3-27 低雑音・高出力C+L帯一括増幅型EDFA
- C-3-26 テルライトファイバとシリカファイバを用いた超広帯域ハイブリッドラマンアンプ
- C-3-25 テルライトラマンアンプの超広帯域増幅特性
- 亜テルル酸リチウムの熱分析的挙動
- C-3-34 1480-1510nm帯高濃度Tm添加光ファイバ増幅器
- 光増幅器用テルライト/フッ化物ファイバモジュールの信頼性
- 光増幅器用テルライト/フッ化物ファイバモジュールの信頼性
- 光増幅器用テルライト/フッ化物ファイバモジュールの信頼性
- 光増幅器用テルライト/フッ化物ファイバモジュールの信頼性
- Prドープフッ化物ファイバモジュールの信頼性
- Prドープフッ化物ファイバモジュールの信頼性
- C-3-41 1.58-μm帯Er^添加テルライトファイバ増幅器の増幅特性
- C-3-36 高濃度Tm添加TDFAの高入力時WDM増幅特性
- 超広帯域テルライトラマンアンプの増幅特性
- 超広帯域テルライトラマンアンプの増幅特性
- 超広帯域テルライトラマンアンプの増幅特性
- 超広帯域テルライトラマンアンプの増幅特性
- C-3-38 980 nm帯励起EDTFAの雑音特性
- C-3-37 L帯テルライト系EDFAの利得制御性
- 1480-1510nm帯高濃度Tm添加光ファイバ増幅器
- 光増幅器用テルライト/フッ化物ファイバモジュールの信頼性
- C-3-117 アンプ用テルライトファイバモジュールの信頼性
- 1581-1616nmに増幅帯域を有するテルライトEDFA
- 1.58-μm帯Er^添加テルライトファイバ増幅器の温度依存性
- 高濃度Tm^添加光ファイバ増幅器の増幅特性
- テルライト系光ファイバの機械的強度
- AE測定法による粉末無機化合物評価に関する基礎検討