三成 剛生 | 理化学研究所
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概要
関連著者
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三成 剛生
物質・材料研究機構 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点
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三成 剛生
理化学研究所
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池田 進
東北大 理GCOE
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斉木 幸一朗
東大 新領域
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塚越 一仁
物材機構
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塚越 一仁
産総研
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塚越 一仁
独立行政法人理化学研究所
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青柳 克信
立命館大学coe推進機構
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青柳 克信
東工大総合理工学:crest(jst)
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青柳 克信
理化学研究所
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斉木 幸一朗
東大院理
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宮寺 智彦
東大理
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宮寺 哲彦
理研
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塚越 一仁
産業技術総合研究所
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池田 進
東大院新領域
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塚越 一仁
産総研:crest(jst)
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塚越 一仁
物質・材料研究機構 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点
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金森 由男
東大院理
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塚越 一仁
物材機構:産総研ナノテクノロジー:理研
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塚越 一仁
独立行政法人物質・材料研究機構 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点
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伊藤 裕美
理化学研究所
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池田 進
高エネルギー研
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宮寺 哲彦
理化学研究所
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塚越 一仁
理化学研究所
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青柳 克彦
理研フロンティア
著作論文
- 表面選択塗布法による選択的有機結晶成長とデバイス応用(応用を視野においた有機半導体の結晶成長)
- 21aRJ-10 ペンタセン薄膜トランジスタの過渡応答の起源とバイアスストレス(有機FET1,領域7,分子性固体・有機導体)